二手 VARIAN E17045261 #9126495 待售

VARIAN E17045261是一種適用於薄膜沈積應用的高性能濺射設備。該系統是陰極輔助濺射技術,可提供先進的薄膜均勻性、低能耗和改進的操作壽命,從而獲得最佳性能。E17045261是一種單源雙磁控管濺射裝置，利用高效、低功率的光源有效地將薄膜沈積在基板上。這臺機器配備了先進的多口袋源組件，允許材料從多個源同時沈積到沈積室中。多源的使用消除了從一個源到另一個源的汙染，從而控制了膜在基板上的沈積厚度。多口袋源還在整個基板上提供了高度的工藝均勻性。該工具旨在通過高級控制源/catode IC和溫度控制來優化生產產量,幫助確保薄膜性能的準確性,並減少停機時間或運營成本。通過控制電源功率、電流、電壓和溫度,VARIAN E17045261高效地沈積具有完美膜均勻性和出色的階梯覆蓋率的薄膜,從而獲得優異的機電性能。資產還包括一個濺射輔助室，它允許對矽基薄膜的生長進行更多的控制。這種濺射輔助腔室特性有助於控制生長中的Si膜的氧化，從而更有效地利用材料。此外，濺射輔助室減少了對過量SiSiO2前體的需求，從而在整個沈積過程中產生了高度可重現的增長率。E17045261是薄膜沈積應用的絕佳選擇，因為它結合了先進的工藝控制和高效的基板覆蓋以及較低的操作成本。該模型還在材料節約和工藝均勻性方面提供了顯著的優勢，提供了即使是復雜特征的有效沈積和更快的沈積周期，從而提高了吞吐量並降低了成本。這種設備的控制信心增強，確保了薄膜的沈積精度近乎完美，機電性能極佳。