二手 VARIAN M 2000 #9277462 待售

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VARIAN M 2000
已售出
製造商
VARIAN
模型
M 2000
ID: 9277462
晶圓大小: 6"
優質的: 1994
Sputtering system, 6" Wafer type: Flat (2) Cassette batches: 25 Slots Cassette environment: Vacuum Main frame with (4) chambers (6) Racks Chiller Power rack (2) Monitors Pump power interface (2) Compressors (5) Oil pumps Damaged parts: ACE Computer CE2 Missing parts: Turbo pump including pipe fittings Elevator motor Ion gauge Oil pump 1994 vintage.
VARIAN M 2000是為極致的工藝靈活性而設計的濺射設備。它是一種高性能系統,非常適合加工包括硬質和軟質材料、金屬薄膜、金屬、電介質和低k電介質在內的多種基材。VARIAN M 2 000具有一系列流程功能和支持選項。它配有一個3位載荷鎖,能夠將樣品預排至200 °C,並配有一個高速率濺射陰極,能夠以高達950nm/min的高速率沈積。濺射工藝可根據特定的預期結果進行調整,並可針對特定工藝(如鈦或鉻氧化物的抗氧化塗層沈積)優化單元操作參數。M 2000還配有內置基板加熱冷卻機,在加工過程中提供對基板溫度的統一控制,每個腔室最多可容納四個目標基板。它還包括一個脈沖等離子體沈積工具,它允許廣泛的工藝選擇,包括薄膜的快速濺射和摻雜過程中的均勻雜質控制。資產與最先進的過程控制模型集成在一起,以確保可重復和可靠的性能。軟件用戶界面直觀,允許用戶輕松設置和保存流程參數,監控設備性能,分析結果。該系統還支持與PC控制系統以及外部儀器和機器人控制器的多個通信接口。M2 000還設計為易於靈活安裝,其緊湊設計可與現有設施和系統集成。它易於攜帶,體積小,非常適合在高生產環境中運行。此外,它的封閉式機櫃允許清潔、安全的操作,而機櫃的設計可最大限度地減少維護和減少停機時間。總體而言,VARIAN M 2000是一個功能強大的濺射裝置,為薄膜沈積、濺射、蝕刻和其他相關處理等應用提供了理想的平臺。它提供了廣泛的參數來優化流程,並確保可靠和可重復的結果。其直觀的用戶界面和過程控制機器提供了用戶友好的體驗,而其緊湊的尺寸和可移植性使其易於在任何環境中安裝和操作。
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