二手 VARIAN M 2000 #9278013 待售

看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。

VARIAN M 2000
已售出
製造商
VARIAN
模型
M 2000
ID: 9278013
晶圓大小: 6"
Sputtering system, 6" Wafer type: Flat Target assy (2) Cassette batches: 25 Slots Cassette environment: Vacuum Main frame with (4) chambers (6) Racks Chiller Power rack (2) Monitors Pump power interface (2) Compressors (5) Oil pumps Damage parts: CE2 Chamber A2 Rack for chamber A2 Quantum source Missing parts: Turbo pump including pipe fittings Wafer temperature controller Heater power supply controller.
VARIAN M 2000是用於薄膜沈積的精密濺射設備.它裝有濺射薄膜的所有必要部件,如濺射槍、微調定位、過程控制、診斷和真空系統。濺射槍的設計提供快速精確的定位,允許最多三個目標同時濺射,方便。其通電的等離子體源使濺射材料與底物對齊,使得整個工作區域內的膜沈積均勻。該槍還配備了易於使用的控制面板,可以對濺射過程進行現場監測和控制。VARIAN M 2 000還提供精確的位置控制,使濺射材料更薄、更均勻地沈積,確保整個工作區域的薄膜厚度一致。位置感應控制器可實現濺射槍的精確旋轉和傾斜。當以一定角度濺射復雜基板時,這種精確的旋轉和傾斜控制尤為重要。M 2000的過程診斷功能允許實時監視和控制濺射過程。這類診斷包括粒子檢測、真空監測、基板溫度測量、氣流感應和壓力傳感器讀數。這使操作員能夠監視和分析濺射過程,以確定最有效的過程參數。M2 000還配備了真空裝置,當與其他特性結合使用時,可以提供極受控制的沈積過程,從而保證最精確的薄膜沈積。該機可控制泄漏率、表面粗糙度、薄膜厚度等詳細參數。總之,VARIAN M 2000是一種用於精密薄膜沈積的濺射工具.其精密濺射槍、精密位置控制、工藝診斷、超控真空資產,使得VARIAN M2 000成為任何研究要求或商用薄膜沈積要求的理想選擇。
還沒有評論