二手 VARIAN / NOVELLUS M2000 #188108 待售

VARIAN/NOVELLUS M2000是一種高性能濺射設備，設計用於在先進的半導體應用中沈積薄膜。該系統由三個不同的模塊組成--濺射室、脈沖等離子槍和硬件平臺。濺射室是VARIAN M2000單元的心臟，用於離子轟擊和薄膜沈積在晶片上。該室配有兩個工藝室，最多可容納五個獨立目標，最大正常運行時間。該腔室利用具有可變電壓、頻率和功率水平的高性能DC/RF雙磁控管濺射源進行沈積和蝕刻。本機在濺射操作中提供出色的均勻性、穩定性和一致性。脈沖等離子體槍是允許離子轟擊和低溫等離子體清洗的附加模塊。該工具能夠濺射蝕刻、表面清潔、活化和化學蝕刻，而不會影響薄膜厚度或微觀結構。此外，脈沖等離子體噴槍適用於低端氣體流量的閉環控制，提高過程的重復性和重復性。硬件平臺在NOVELLUS M 2000資產的性能和效率方面起著不可或缺的作用。該平臺為不同的流程配置提供模塊化設計,並為高級流程技術提供可擴展性。M2000提供了一種基於PC的高性能控件模型,該模型具有方便用戶的界面,可用於過程監控和數據收集。此外,該平臺還支持用於流程參數優化、工具集成、故障診斷和產量/流程優化的自定義設計軟件。總體而言,VARIAN/NOVELLUS M 2000是一種先進的基於DC/RF的濺射設備,旨在確保卓越的薄膜沈積質量、均勻性和吞吐量。該系統為先進的半導體器件制造和生產提供了卓越的工藝重復性。