二手 VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MB2-830 #293595641 待售

VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MB2-830
ID: 293595641
晶圓大小: 8"
Sputtering system, 8".
VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MB2-830是一種高性能濺射設備,設計用於先進的薄膜器件研究和加工。該系統具有直接陰極濺射結構,可高效生產薄膜層,並具有廣泛的材料兼容性。TEL MB2-830具有低磁場目標配置和先進的平面磁控管濺射工藝.該單元可用於在各種基板上創建薄膜層,其高效的濺射工藝允許高質量的薄膜沈積和均勻性。該機配備了功能強大、用途廣泛的離子源,以及先進的離子束監測和計量控制能力。變頻電源可根據所需的目標材料和塗層要求量身定制,為用戶沈積薄膜提供必要的靈活性。VARIAN MB2-830還有一個先進的冷卻解決方案,確保穩定的溫度操作和優秀的膜均勻性和附著力。其基於直流的濺射工藝消除了可能造成薄膜缺陷的離子「浸」侵蝕。該工具與廣泛的基材類型兼容,從矽到玻璃,可用於產生納米級的薄膜沈積。MB2-830包括高性能、RF驅動的控制資產。這保證了薄膜沈積的穩定性,改進了工藝控制和良好的模型吞吐量。該設備還設有一個綜合加熱裝置,用於產生高質量薄膜沈積所需的基板溫度。該系統包括彩色液晶顯示器,方便用戶界面和操作。TOKYO ELECTRON MB2-830與眾多真空泵兼容,允許最佳運行條件。該設備還提供遠程訪問功能,允許用戶從任何位置控制濺射過程。VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MB2-830是一種先進的濺射機器,旨在確保薄膜層在各種底物上的高效和均勻沈積。其直接陰極濺射構型和眾多等離子體監測、計量、控制能力保證了優質的薄膜沈積,具有極好的均勻性。該工具非常適合薄膜研究和先進的沈積處理。
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