二手 VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MBB 830 #9274362 待售

VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MBB 830
ID: 9274362
晶圓大小: 8"
優質的: 1995
Sputtering system, 8" CTI-CRYOGENICS OB-8 (3) Chambers TiN 1995 vintage.
VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB 830是一種強大的濺射設備,能夠執行熱流和直流磁控管濺射沈積過程。這套通用系統非常適合一系列應用,包括生產光學活性太赫茲薄膜、金屬和半導體薄膜、高端光學元件塗層以及電氣元件。TEL MBB 830的設計確保了安全可靠的操作。其中包括一個獨特的陶瓷安全殼容器,可與或不與氟化碳源容器一起使用,以保護和控制濺射過程。為了獲得最佳安全,該單元包括多種安全功能。VARIAN MBB 830配備了緊急停止/重置按鈕、外殼互鎖、溫度感應裝置和超壓釋放閥。MBB 830采用標準的「負載鎖定」濺射室,帶有視口和12位晶片卡帶。這種設計非常適合大規模的薄膜沈積以及小規模的研發目的。此外,TOKYO ELECTRON MBB 830能夠與非反應性(如Al和Si)和反應性(如氧化物)濺射氣體一起工作,以達到最大的薄膜精度和均勻性。該機器還配備了先進的、用戶友好的控制控制臺。這有助於用戶對其沈積作業進行編程,並允許他們實時監控進度。控制臺配有一個有源封裝,允許晶圓轉移、腔室壓力自動化以及增加反應性氣體,以提高沈積精度和重復性。VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB 830還包括多種工藝工具和材料,以取得優異的沈積效果。這包括一個機械動力進給器、一個低溫後退火室和一個高溫烘焙室,所有這些都可以針對特定的項目需求定制定制。此外,該工具還能夠使用許多濺射源,如平面源、旋轉源和線性源。簡而言之,TEL MBB 830是一款可靠、靈活的濺射資產,配備了多種安全功能和工藝工具,可實現最大精度和重復性。它非常適合各種應用,從大型光學活性膠片制作到小型研發項目。
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