二手 VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MBB 830 #9274368 待售
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ID: 9274368
晶圓大小: 8"
優質的: 2000
Sputtering system, 8"
CTI-CRYOGENICS OB-8
(3) Chambers
TiN
2000 vintage.
VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB 830是一款高度先進的濺射設備,適用於薄膜、研發、半導體/電子行業的多種應用。它是專為在玻璃、矽、光刻抗蝕劑、塑料等基板上沈積超薄膜而設計的。TEL MBB 830利用多用途、多目標、多源濺射系統來實現比傳統濺射系統快十倍的沈積速率。這樣可以實現高效的膠片增長和無與倫比的質量。VARIAN MBB 830具有集成式真空密封室,利用低壓惰性氣體環境最大限度地減少敵對環境的影響。這允許安全、穩定和一致的濺射過程控制。此外,該單元還有一系列精心設計的控制器和配件,方便用戶使用。TOKYO ELECTRON MBB 830的超高精度平臺也允許其進行復雜的操作,如多層薄膜生長,並包括防靜電底板以確保最小靜電荷積聚。該機還允許廣泛的濺射目標材料,如金屬、合金和氧化物,可用於生產從幾納米到幾百納米厚的薄膜。MBB 830還具有自動調整和優化功能,允許用戶通過簡單地改變濺射速率、溫度或壓力來定制薄膜的材料成分。此外,該工具還具有高功率、超低噪聲磁控管,能夠對薄膜厚度和組成進行特殊控制,並具有反饋機制,使資產能夠不斷監測和調整沈積參數。VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB 830是一款易於使用的型號,具有直觀的控制設備以及車載數據采集和分析工具。這使用戶能夠準確、快速地調整膠片參數,達到理想的效果。總體而言,TEL MBB 830是薄膜沈積的重要工具,適用於薄膜、研發和半導體/電子行業的眾多應用。VARIAN MBB 830憑借其集成、通用的濺射系統、多目標、多源系統、自動調節優化技術以及廣泛的兼容材料和工藝參數,提供了無與倫比的性能、耐用性和易用性。這使得TOKYO ELECTRON MBB 830成為任何實驗室或工廠的關鍵部件。
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