二手 VCR GROUP IBS / TM200S #9246303 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9246303
Ion Beam Sputtering (IBS) system
With 200 I/s turbo-molecular pump
Ion-beam gun
Quartz crystal thickness monitor
4-Position target carrier
Liquid nitrogen cold trap
Argon gas flow: 5-10 psi, 1.5 sccm, 99.999 % pure
Nitrogen gas flow: Turbo molecular pump bleed
Water flow: 30 GPH, clean water
Electrical:
Interlocked to prevent high voltage shock
110 VAC, 50/60 Hz, 15 Amps.
VCR GROUP IBS/ TM200S是一種濺射設備，主要用於薄膜的物理氣相沈積。它在薄膜沈積過程中利用離子轟擊的威力，使得它特別適合於PVD（物理氣相沈積）技術。IBS/ TM200S由9軸運動控制系統操作，能夠創建從單向到極性反向濺射的各種濺射過程。濺射過程利用高壓電源和陰極（目標）以及屏蔽陰極來控制等離子體並創建所需的沈積厚度剖面。當用離子束轟擊目標時，就會啟動濺射過程。這種轟擊加熱目標表面，蒸發原子，然後以均勻、無方向的光束向與濺射室接觸的基板加速。當高能原子向底物移動時，它會遇到一個屏蔽層，部分地反射高能原子，並允許沈積的膜在所需位置形成。通過控制目標材料的蒸發速率，可以調節薄膜的厚度。VCR GROUP IBS/ TM200S是專門為提高沈積厚度、均勻性和膜在大基板上的均勻性而設計的。除了濺射，IBS/ TM200S能夠控制晶片的運輸。它使用自動晶片傳輸單元來控制晶片的插入和從濺射室中提取。該機作為終端效應器，是確保樣品安全的重要安全特性。VCR GROUP IBS/ TM200S還配備了負載鎖定工具、閉環厚度控制資產和自動啟動模型等功能。所有這些特性結合在一起，使IBS/ TM200S成為物理氣相沈積應用的理想選擇。
還沒有評論