二手 VEECO / IONTECH RF-2001 #293825019 待售

VEECO/IONTECH RF-2001是一種最先進的濺射設備,為半導體和材料研究應用提供卓越的性能。它以先進直觀的觸摸屏SMART-CAL軟件提供卓越的材料沈積。該濺射系統采用熱絲陰極電弧沈積（HFCAD）技術，為各種材料提供優質的薄膜沈積。VEECO RF-2001由於其動力源、過程氣體控制單元和原位濺射室的原因,能夠對沈積速率、沈積均勻性和薄膜結構進行精確控制。IONTECH RF-2001由獨特的雙磁控管電源驅動,用戶可以獨立控制每個目標的功率或電流,同時在廣泛的目標材料上精確監控沈積速率、溫度、溫度分布和沈積均勻性。電源還包括內置的智能電弧檢測系統，用於保護比平時更長的電弧和電弧。RF-2001還配備了最先進的過程氣體控制機器。VEECO/IONTECH RF-2001先進的工藝氣體控制工具能夠控制沈積過程中的多種氣體，並且可以精確控制濺射氣體的含量和流量。該工藝氣體控制資產還具有獨立的等離子體和射頻電弧源.最後，VEECO RF-2001包括一個獲得專利的原位濺射室，它提供了一個多功能的一對一濺射和沈積溶液。濺射室具有射頻天線、靜態磁場和一組形成三維電磁環境的射頻線圈，用於最佳氣流和等離子體限制。這確保了均勻的沈積和良好的臺階覆蓋在基板上。IONTECH RF-2001是一種先進的濺射模型，非常適合半導體和材料研究的應用。采用熱絲陰極電弧沈積（HFCAD）技術，實現了對沈積速率、沈積均勻性、薄膜結構控制出色的高質量薄膜沈積。RF-2001還具有獨特的雙磁控管電源和用於控制沈積過程中多種氣體的最先進的工藝氣體控制設備。最後，獲得專利的原位濺射室為均勻沈積和良好的階梯覆蓋提供了最佳的氣流和等離子體限制。