二手 VON ARDENNE EH200V #293793857 待售

VON ARDENNE EH200V是為光學、電子、先進材料等領域的高性能薄膜沈積而設計的濺射設備。這個最先進的濺射系統提供了廣泛的特性和能力，以滿足薄膜行業日益增長的需求。EH200V是一個通用平臺,可配置用於直流和射頻濺射過程,為各種材料和應用的沈積技術提供靈活性。該裝置配有高真空室，確保薄膜生長的清潔無汙染環境。這一特性對於獲得結構和光學性能優異的高質量薄膜至關重要。VON ARDENNE EH200V的關鍵部件之一是濺射陰極，它負責產生濺射過程所需的等離子體。該機器提供了一系列陰極選項，包括磁控管濺射源，使各種材料的沈積能夠精確控制薄膜厚度和性能。該工具還配備了先進的電源,可提供高功率密度和出色的工藝穩定性,確保可重現的效果和改進的薄膜質量。EH200V具有可編程控制資產,允許用戶設置和優化沈積參數,如功率、壓力和氣體流量。這種控制水平對於實現符合具體要求的均勻膠片生長和膠片性能至關重要。該模型還提供了現場監測和控制工具，如光發射光譜和石英晶體微平衡，使實時過程監測和反饋能夠進行精確的過程控制。除了先進的沈積能力外，VON ARDENNE EH200V還提供一系列基板處理選項，以適應不同的基板尺寸和形狀。該設備可配置各種基板加熱器和操縱器，以便在沈積過程中精確控制基板溫度和方向。此功能對於優化特定應用中的膜粘附、形態和應力至關重要。此外,EH200V的設計考慮了可擴展性,允許用戶輕松擴展和升級系統,以滿足不斷變化的研究和生產需求。該單元與一系列附加模塊兼容，如集群工具、鎖載室和高級監控系統，為用戶提供了根據需要增強機器功能和性能的靈活性。總體而言,VON ARDENNE EH200V是一種高性能濺射工具,它為薄膜沈積應用程序提供了高級功能、靈活性和可擴展性。憑借其最先進的設計、精準的操控特性和優越的工藝穩定性，EH200V是各行業研發、生產尖端薄膜技術的理想選擇。