二手 ALPSITEC MECAPOL E550 #9240664 待售
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單擊可縮放
ID: 9240664
晶圓大小: 6"
CMP System, 6"
Rack:
Wafer diameter: < 200 mm
Rotation speed: 15-150 RPM
Rear pressure: 0-100 kPa
Polishing force: 0-3000 N (14 psi on 8")
Horizontal displacement: Adjustable amplitude
Main load tray:
Diameter: 550 mm
Rotation speed: 15-150 RPM
Temperature: 10°C - 60°C
Secondary tray:
Diameter: 350 mm
Rotation speed: 20-200 RPM
Conditioner:
Force: 10-300 N
Diameter: 100mm, 238 mm
Rotation speed: 10-70 RPM
Final conditioner:
Linear brush: 22 mm x 100 mm
Facilities:
Pressurized air: 6-7 bars
Head motor: 0.75 kW
Engine tray: 2.2 kW
Conditioner engine: 0.37 kW
Consumption:
Water-DI: 200 L/hr
Pressurized air: 220 L/min
Electricity: 5 kW
Air gap: Internal pump
Power: 220-380 V, 50-60 Hz, 3 Phase.
ALPSITEC MECAPOL E550是一種先進的晶片研磨、研磨和拋光設備,其設計目的是生產高質量、高產量、表面光潔度較高的晶片。該系統具有獲得專利的「自對準」垂直研磨原理,設計用於處理高達250 mm的大型晶片,平均粗糙度（RA）為0.5 μ m,表面平整度為10 μ m。MECAPOL E550提供了一系列高效的矽研磨和研磨技術,具有三個獨立的研磨主軸,可實現高精度和可重復的研磨結果。ALPSITEC MECAPOL E550配備了一個監控單元,以確保高效、安全的運行。該機設計用於批量或全自動處理，能夠實現晶片的自動化裝卸。該工具還裝有二維自動對焦攝像機，能夠精確測量和調整研磨參數。此外,該E550與所有流行的高速系統兼容,允許無縫集成到現有的生產過程中。MECAPOL E550還可以配備數字液晶觸摸屏，方便設置和調整機器參數和配方加載。該資產還具有內置零件計數器和節氣門傳感器,用於監控每批的研磨時間和輸出。安裝了高精度隔振模型，以盡量減少過度振動和擾動造成誤差的可能性。ALPSITEC MECAPOL E550提供高質量、高產的晶片,表面光潔度極佳.該設備采用先進的研磨、研磨和拋光技術,可加工高達250 mm的大型晶片,具有0.5 μ m的RA和高達10 μ m的表面平坦度。該系統還配備了故障安全監控系統和用戶友好的液晶觸摸屏控件，便於操作和設置。MECAPOL E550具有高效的生產率和可靠的重復效果，是磨削、研磨和拋光大晶片的理想解決方案。
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