二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CMP 5201 #9093212 待售
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已售出
ID: 9093212
晶圓大小: 8"
優質的: 2003
Cleaner, 8"
Process: PCUDCU
SMIF Type. FABS
Runs oxide application
Mirra polisher
Mesa cleaner
FABS Cassette system
System controller
Polisher: MB60a1
Cleaner: CB22p2
Endpoint: IB11h7
CPU: Pentium III 400 MHz
Dual RAID hard disk
Hard disk size: 68 GB
RAM: 128 MB
Configurations:
Polisher / with controller Mirra 3400 / 5200
Indexer RORZE FABS
(3) Foup
Slurry (P1+P2+P3) ABCD each
Endpoint laser P1: IScan
Endpoint laser P2: Full scan
Polisher middle skins: Opaque
UPA: Standard
No chiller
Com port server: Digi EL160
Cleaner brush LDM: User modified direct feed LDM
With ENTEGRIS flow sensors
Walking beam: PEEK Fingers with PP grippers
Slurry in CLC
Slurry arm 4 lines
Polishing head: Titan I
Rotary union: 4 ports
Cross type: Cattrack
Platen teflon coated
Pad conditioner type: Universal
Retainer ring type: AEP III
Membrane type: Center bump
PC Diaphragm: Silicon
Brush with core type: PP Core
Upgrade / CIP Retrofit:
LLA Guide pin: Self align
Slider motor 200 W
PM Reduction kit
Queue tub
Membrane UPA filter
Blackout covers
Splash guard
Wind tunnel
Exhaust blower
Magnehelic pressure low level detection kit
SRD Exhaust interlock
Cassette slot run order (From slot 25 down to 1)
2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CMP 5201是一種精密晶圓研磨、研磨和拋光設備,旨在為半導體應用提供最高水平的性能和質量。該系統采用自動CMP工藝,對磨削、研磨和拋光工藝提供卓越的控制,以產生最高水平的表面光潔度。AMAT CMP 5201具有一系列可配置的參數,使用戶能夠根據需要調整流程以獲得精確的結果。該機組配備了高精度、高速的磨頭，使用金剛石尖磨盤將材料精確研磨至精確深度。磨頭還有一個可調的螺距，可以進一步控制磨削過程。磨削工藝旨在提高表面光潔度，消除缺陷，減少浪費。APPLIED MATERIALS CMP 5201還配備了研磨模塊，用於將晶片拋光到所需的精加工水平。研磨模塊采用金剛石研磨化合物和拋光墊的組合，對晶圓表面進行研磨和拋光。這一過程產生了高度反射的表面，非常適合在半導體應用中使用。CMP 5201還集成了晶圓倒角模塊，該模塊旨在提供晶圓的精確倒角。這項技術使用金剛石尖端刀片在晶片邊緣產生均勻一致的倒角切口。AMAT/APPLIED MATERIALS CMP 5201還具有完全模塊化的設計,允許用戶定制機器以滿足特定的工藝要求。模塊化設計使重新配置工具以適應新的工藝要求或與生產工藝的其他組件集成變得容易。總而言之，AMAT CMP 5201是生產用於半導體應用的精密成品晶片的高效資產。可靠的研磨、研磨和拋光技術相結合，使其成為用於生產線和實現最高水平半導體性能的理想選擇。
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