二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Mirra OnTrak #9223507 待售
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已售出
ID: 9223507
晶圓大小: 8"
優質的: 2000
CMP System, 8"
System controller
Main system:
Polisher
Ontrak cleaner
FABS Cassette system
CPU: Pentium III 400 MHz
Dual RAID hard disk
Hard disk size: 68 GB
RAM: 128 MB
Hardware:
Polisher with controller: Mirra 3400 / 5201
Cleaner: Ontrak
Indexer: RORZE FABS
Slurry (P1+P2+P3): AB
Endpoint laser P2: Legacy non FS
Polisher middle skins: Clear middle skin
No chiller
Com port server: Digi EL160
Cleaner brush LDM: LDM With entegris flow sensors
Slurry in CLC
Slurry arm: (2) Lines
Polishing head: Titan I
Rotary union: (3) Ports
Cross type: Cattrack
Cassette slot run order (From slot 1 down to 25)
Consumable:
Platen teflon coated
Pad conditioner type: UNIVERSAL
Retainer ring type: AEP II
Membrane type: Silicone membrane
PC Diaphragm: DDF3 Diaphragm
Brush with core type: Aion ontrak brush has been replaced
Upgrade / CIP Retrofit details:
LLA Guide pin: Self align
UPA: Waterfall
No splash guard
Exhaust blower
Magnehelic pressure low level detection kit
SRD Exhaust interlock
Queue tub
No blackout covers
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Mirra Track Wafer Grinding, Lapping and Opilishing Equipment是半導體晶片高精度、低成本處理的交鑰匙解決方案。它是一個堅固而緊湊的系統,可進行正面和背面的單面研磨、研磨和拋光,精度最高。其核心特性之一是快速轉換功能,它允許快速更改晶圓尺寸範圍和研磨厚度。它被用於多種半導體的應用，如鏡面和扁平晶片研磨、模具分離器和斜角研磨，以及有圖案的薄膜拋光。此外,它采用了獨特的兩站處理方法,從而提高了吞吐量並減少了總體成本和上市時間。該單元的研磨和研磨采用了最先進的研磨技術、金剛石粉塵和陶瓷輪系統的組合。這使得高精度的研磨、研磨和拋光能夠在該納米範圍內。此外，模塊化設計包括研磨站，以及清潔、拋光、檢測站，以確保每個晶片的精度最高。機器有一個軟件，高級處理技術（APT），提供一個用戶友好的界面來管理研磨和研磨過程。軟件包含晶圓尺寸範圍、研磨厚度監視器、反饋控制系統、研磨膠帶加載型材、研磨參數、拋光參數（壓力、時間）、拋光循環等程序控制，進一步確保精度和精度。總體而言,AMAT Mirra Track晶圓研磨、研磨和拋光工具為半導體制造商提供了一個先進而堅固的解決方案,具有低成本和高精度的處理能力。其獨特的兩級處理和快速轉換功能使系統能夠以最高的精度處理各種半導體應用。利用其先進的加工技術軟件,進一步提高了工藝的精度和控制能力.
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