二手 EBARA 300e #9195909 待售

EBARA 300e
ID: 9195909
CMP System.
EBARA 300 e晶圓研磨研磨拋光系統是為滿足半導體市場苛刻需求而設計的精密機床。300 e是一臺強大高效的機器,提供最高水平的質量和成本效益。在機器的核心是磨削,研磨和拋光頭有三個綜合工藝階段。這三個階段的流程允許高效和高效的工作流程。研磨階段采用金剛石塗層研磨輪進行精密研磨,達到表面粗糙度,減小粒徑。研磨階段使用磨料漿料將晶片表面打圈。最後,拋光階段使用金剛石墊來實現鏡面般的拋光飾面。具有數控多功能功能的研磨、研磨和拋光系統易於使用。操作員界面直觀,允許高流程控制和靈活性。該機器提供可調節的速度、壓力、旋轉和電平,能夠處理各種晶圓尺寸,最大可達300毫米。EBARA 300 e為安全而設計,符合CE認證標準。所有的操作和維護信息都在用戶手冊中提供,並且該機適合於自動閉環操作。300 e是一種可靠的精密設備,在晶圓研磨、研磨和拋光等方面具有優異的性能。該機由優質材料和部件組成,提供卓越的工藝控制和效率。EBARA 300 e為現代半導體制造的挑戰提供了經濟高效的解決方案。
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