二手 EBARA EPO-113 #293760238 待售

EBARA EPO-113
ID: 293760238
CMP Systems.
EBARA EPO-113是一種高性能晶片研磨、研磨和拋光設備,設計用於單晶片和多晶片加工。該系統基於安裝在電機驅動主軸上的磨頭、拋光布輪和流體供應單元。該電動機是一種堅固的交流驅動電動機,由PLC機控制,可以精確控制主軸轉速。磨頭具有獨特的夾緊機構,以確保晶片牢固地夾在頭部。拋光布輪安裝在伺服電機上,可以根據工藝的不同調整到所需的壓力和速度。布輪也可以45°的增量調節,以確保達到所需的拋光效果。流體供應工具旨在確保向布輪提供一致的冷卻劑,以防止晶圓在研磨和拋光過程中過熱。該資產配有各種傳感器和工藝監測器,有助於確保晶片的質量。研磨機裝有視頻模型,可用於在研磨和拋光過程中檢查晶片。設備還配備了光學顯微鏡,可用於測量晶圓表面的平整度和粗糙度。此外,系統還配備了數字控制器和讀數,使得研磨和拋光參數的設置更加容易。該單元設計用於處理單個和多個晶片。單晶片工藝可以使用旋轉主軸進行,而多晶片工藝則涉及廣泛的研磨、研磨和拋光操作,從而確保所需的晶片平坦度、表面光潔度和尺寸。多晶片工藝分兩個主要階段進行:預清洗和研磨/研磨/拋光。預清潔工藝用於去除晶片表面的灰塵和汙垢,而研磨/研磨/拋光工藝則用於將晶片拋光至所需的表面光潔度和平坦度。綜上所述,EBARA EPO 113是一種高性能晶圓研磨、研磨拋光機,專為單晶圓和多晶圓加工而設計。它具有堅固的交流驅動電機、可調拋光布輪、流體供應工具以及一系列傳感器和過程監視器,以確保獲得最佳處理效果。
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