二手 EBARA EPO-113 #293825810 待售

EBARA EPO-113
ID: 293825810
CMP System Normal head Oxide CMP Host station Renesas upside +8K/m tool.
EBARA EPO-113是一種自動晶圓研磨、研磨和拋光設備,旨在提供精確、一致和可重復的拋光結果。該系統可以處理直徑達6英寸的各種晶片,效率和精度都很高。EBARA EPO 113建立在剛性減振框架上,包含集成的低噪聲真空單元。這臺機器允許精確,可重復應用和去除各種研磨,研磨和拋光介質。精確的運動控制和精確的運動輪廓由三個高精度的無刷伺服電動機驅動在兩個獨立的門架上,結構剛性,耐腐蝕。EPO-113晶圓研磨、研磨和拋光工具提供了許多用戶可控制的參數。這包括進料和旋轉電動機的速度、施加和去除研磨和拋光介質的壓力循環以及整個循環時間。機電設備還可以進行精確和可重復的研磨、研磨和拋光工藝,以及精確的晶圓定位,確保應用和去除過程的機械-化學對準。EPO 113型的運行環境是為了方便設備的高效運行而設計的。這包括有氮供應的清潔環境,以及溫度和濕度控制。還提供了廣泛的配件,包括冷卻系統、氣體調節器、安全罩和樣品芯片,允許對拋光過程進行全面控制。系統的高級控制算法允許直觀的編程和操作單元.這臺自動化機器可以與許多其他系統連接,包括PC、網絡或控制器。位於前面板的交互式顯示屏允許進一步控制用戶。EBARA EPO-113晶片研磨、研磨和拋光工具是一種用於拋光各種晶片的完整、自動化的解決方案。精確的運動控制、機電資產和先進的控制算法提供了可靠的精密拋光結果。用戶可控制的參數設置、直觀的編程和接口以及廣泛的附件增加了模型全面的功能。
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