二手 EBARA EPO-222 #115590 待售
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已售出
ID: 115590
Metal Layer CMP System (Tungsten), 8"
Standard Top ring
Dresser - pellets (2)
Dressing load standard
Normal rotating speed
Main polish table (2)- stainless steel
Rotating speed - normal
2 slurry lines
2 slurry return lines
2 slurry feed pumps - Standard Flow
Standard pusher
2 control panels
4 robots
Roll clean
Pencil clean
1st cleaner: 1 chemical line
2nd cleaner: Pen sponge, Spin Dry
Endpoint Monitor (EPM) - 2 pc monitors
Currently crated
1999 vintage.
EBARA EPO-222是一種先進的晶圓研磨、研磨和拋光設備,用於半導體制造和其他需要精確精度的行業。EBARA EPO222系統專為提供效率和質量而設計,在半導體研磨、研磨和拋光應用中提供最佳性能。EPO 222單元由主體和輔助設備組成,包括研磨夾具、研磨板、研磨盆和合規頭。機器在雙電壓驅動電機上運行,能夠實現高達700 rpm的速度。該工具的主體具有重型結構、鑄鋁框架和不銹鋼門的耐用性和易維護性。封裝在密封的防塵艙內,以達到最佳的安全性和性能。研磨夾具用於將研磨盆附著在主體上,方便晶片的轉移。研磨板用於將研磨盆提高和傾斜至最佳角度,使研磨均勻且更薄。研磨盆采用多層塗層的高精度合金刀,使研磨操作流暢高效。合規性頭可控制晶片的加工頻率,確保研磨和研磨操作成功且精度高。EBARA EPO 222配備了先進的監控和保護系統,以確保最佳性能、安全和壽命。資產包括自動報警和關機功能,以防止由於過載或過熱造成的任何損壞。該型號還配備了自動潤滑設備,為研磨夾具、研磨板和研磨盆提供潤滑,從而確保系統的最小磨損和最大效率。EPO222裝置的設計性能可靠,擁有成本低,保證了生產過程的不間斷和產量的提高。EPO-222具有輕巧的設計和集成的手動跟蹤功能,操作簡單易行,是半導體行業理想的晶圓研磨和拋光解決方案。
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