二手 EBARA EPO-222 #293775096 待售

EBARA EPO-222
ID: 293775096
CMP System.
EBARA EPO-222是一種自動晶圓研磨、研磨和拋光系統,與傳統的手動研磨和拋光方法相比,可為要求最苛刻的應用提供卓越的效果。該系統由一個主研磨/拋光臺、一個主電機和驅動單元、兩個分開的上下研磨/圈級、一個靜態拋光臺以及一個拋光膜應用和拆卸站組成。所有這些組件結合在一起,使系統緊湊、經濟高效且用戶友好,同時提供出色的效果。EBARA EPO222的主研磨/拋光臺設計為一次最多可容納六個晶片,並具有可調的速度設置,允許用戶以不同的速度研磨和拋光多個晶片。主電機驅動具有較高的扭矩,允許一致的研磨和拋光壓力,每次均勻一致的結果。上下兩個分開的研磨/圈級可以處理任何形狀的晶片或基板表面,並且可以精確調整以獲得可重復的結果。這種靈活性允許精確調整研磨角度、距離和壓力,以確保完美拋光,而不管表面的復雜性如何。EPO 222的靜態拋光級設計為沿整個晶圓表面或基板材料均勻施加特定的壓力,確保空隙自由表面。紙張應用和去除站用於去除基板上的殘留物,同時處理平面和曲面。EPO-222易於使用,並且需要極少的努力來設置,使其成為任何精密研磨、研磨和拋光應用的絕佳選擇。桌子的振動作用模擬拋光了整個晶片表面,而且足夠柔和,甚至可以處理最精致的材料。能夠以可重復的結果拋光大量晶片,EPO222是任何晶片相關生產工藝的絕佳選擇。
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