二手 EBARA EPO-222 #9083271 待售

EBARA EPO-222
ID: 9083271
CMP System.
EBARA EPO-222是一種先進的晶圓研磨、研磨和拋光設備,旨在滿足日益增長的先進半導體操作需求。該系統采用先進的研磨算法,在小直徑晶片上以每小時500晶片的速度產生高精度的單晶表面。EBARA EPO222單元設計為多功能性,具有多種積極的研磨和拋光選項,可提供精確的高速研磨,確保晶圓表面光潔度的精確高質量效果。它能夠在同一個框架上容納各種各樣的磨床和拋光機,從而能夠在一臺機器上安裝和管理高效的工藝切換和多個磨床/拋光機。EPO 222的簡單構造確保了簡單的安裝、操作和維護。機器裝有15英寸彩色觸摸屏,用於控制流程參數和監控進度。整個過程不斷監控,任何需要調整的研磨、研磨和拋光參數都可以輕松快速地完成,同時保持最高效果。EPO222的研磨/研磨頭由無刷直流電動機提供動力,確保精確的精度和恒定的速度。先進的主軸軸承工具可保持剛度和剛度,而運動控制技術可確保精確的同心度。該資產還包含高精度刻度,分辨率為0.0001 mm,用於精確厚度控制。EPO-222還配備了連接視覺、缺陷檢測、並行檢測等先進技術。交界視覺模型自動測量和監測交界深度和形狀,以確保最佳性能。缺陷檢測設備可實時檢測、定位和分類晶片表面的所有異常,如凹坑、顆粒和變形,防止出現質量問題和缺陷。並行檢測系統對每個晶片進行自動對準,確保批次之間的均勻性。EBARA EPO 222是一種強大可靠的晶圓研磨、研磨和拋光裝置,可用於各種生產需求。憑借其先進的功能和技術,該機器能夠提供精確、高質量的結果,並提供最少的維護和停機時間。
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