二手 EBARA EPO-222 #9203984 待售

EBARA EPO-222
ID: 9203984
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
CMP Systems, 8" 1996 vintage.
EBARA EPO-222晶圓研磨、研磨和拋光設備旨在協助生產具有超光滑表面的半導體晶圓。該系統包含一個磨床、兩個圓柱形磨石、一個潤滑單元、兩個拋光頭和一個過濾單元。磨床是一個大的、耐用的、精密加工的零件,由鑄鐵或不銹鋼制成。它提供了一個平坦均勻的表面,晶圓在其上工作,磨石在其上移動。磨石由特殊的金剛石顆粒制成,能夠生產出超光滑的表面。潤滑機在磨石和晶片上註入一層薄薄的油膜,防止磨石和晶片在磨削過程中相互移動時出現評分和損壞。可以調整該工具以保持一定範圍的粘度,從而允許設置中的靈活性,以優化性能。拋光頭的下力臂將晶片固定在研磨臺上,同時給拋光布加壓。他們沿著桌子向上和向下移動晶片,在拋光布上撫摸著晶片的表面,它消除了小顆粒和缺陷。過濾單元設計用於捕獲拋光過程產生的顆粒並從資產中移除,從而確保顆粒不會汙染晶圓表面。過濾器還通過減少顆粒物汙染的體積來幫助持續的模型操作,從而最大限度地減少對頻繁設備維護的需要。總體而言,EBARA EPO222晶片研磨、研磨和拋光系統的實施為生產具有超光滑表面的半導體晶片提供了一種符合半導體行業嚴格標準的經濟高效可靠的方法。
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