二手 EBARA EPO-222 #9203985 待售

EBARA EPO-222是由EBARA Corporation設計制造的用於半導體工業中使用的晶片精密拋光的雙空間晶片研磨、研磨和拋光設備。該機利用各種研磨、研磨和拋光操作，在晶圓兩側產生優越的光潔度，使其適合廣泛的工藝中使用，包括制造LED、激光和MEM等先進元件。EBARA EPO222系統由雙工作室組成,使操作員能夠在同一單元內運行兩個不同的並發進程。該機配備了高性能主軸、研磨盤和膝板，確保了扁平和圓形零件生產的最大精度。磨削和拋光工藝采用先進的技術，包括精確的壓力控制，以確保高度的均勻性和可重復性，使操作員能夠生產出具有精確表面光潔度和可重復性的零件。EPO 222機還配有自動化視覺工具，能夠以0.001毫米的精度測量零件。這使資產能夠準確檢測和糾正偏移、圓度和半徑誤差,從而加快高質量零件的生產速度。此外，機器還配備了安全監控模型，使操作員能夠監控過程的狀態並確保過程環境的安全。設備提供0到999 RPM的可調速度，以及0到25 kgs之間的可調磨輪壓力，使操作員能夠準確地適應每個工藝所需的條件。另外，機器有一個內置的自檢系統，保證了安全可靠的操作，其自動程序功能使操作員能夠輕松地對生產過程進行編程。總而言之，EPO222為高質量晶片的生產提供了操作精度、準確性和靈活性。