二手 EBARA EPO-222 #9226638 待售

EBARA EPO-222
ID: 9226638
晶圓大小: 8"
Oxide CMP system, 8".
EBARA EPO-222是由EBARA Corporation開發的最先進的晶圓研磨、研磨和拋光設備。該系統旨在為半導體制造工藝高效研磨、打磨和拋光晶片。該裝置采用全自動金剛石和化學機械拋光模塊,配有精確的晶圓進料和跟蹤系統,拋光頭調節系統,以及廣泛的拋光和研磨消耗性溶液。該機可用於研磨、膝蓋和拋光各種晶圓直徑和形狀。其創新的晶片進料和跟蹤系統使晶片能夠在拋光墊上精確定位。額外的反饋傳感器檢測表面粗糙度和平坦度等光潔度參數,從而能夠精確控制晶圓特征和拋光質量。機器的內部監控工具不斷記錄參數,提供對過程的全面追溯,並確保質量標準得到維護。EBARA EPO222具有很高的生產率,因為它可以以高達500 rpm的速度同時處理多達12個晶圓。資產使用堅固的材料和組件構建,這些材料和組件旨在提供出色的機械穩定性,確保卓越的研磨、研磨和拋光效果。它還配備了強大、無維護的吸力電動機和堅固的結構,旨在最大限度地減少振動,以實現一致的過程重復性和最高的質量結果。此外,該車型還配有拋光劑、研磨膜和過濾元件等全套耗材和配件。它還配備了先進的用戶界面,可以方便編程,方便訪問作業配方。這有助於操作員簡化生產設置並提高工藝質量。通過集成先進技術,EPO 222晶片研磨、研磨和拋光設備為控制工藝性能和提供卓越的晶片質量提供了一種高效的方法。
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