二手 EBARA EPO-222A #293622939 待售

EBARA EPO-222A
ID: 293622939
CMP System.
EBARA EPO-222A是一種晶圓研磨、研磨和拋光設備,用於在所有類型的半導體晶圓中生產高精度表面,如矽、氮化零(GaN)和石英。其先進的研磨、研磨和拋光技術利用動態控制來確保優化的表面質量,從而提高產量和工藝效率。該系統旨在在晶圓上創建高精度的鏡像曲面。采用砂輪磨削技術,采用基板研磨、晶圓非接觸拋光和雙羊毛拋光兩步磨削工藝。該機組的研磨機裝有空心滾筒式頭,設計用於將材料統一輸送到車輪的外圍邊緣,從而在表面產生均勻的研磨。此外,研磨主軸運行在高轉速提供高度均勻和可重復的表面。重載拋光機提供所需的壓力和可控滑移,以保證均勻的物料去除率。EBARA EPO 222A配備了操作和控制各種過程的計算機工具,允許根據需要進行調整以產生高精度曲面。其用戶友好的觸摸屏監視器;設計還可以方便操作。此外,還設計了一個自動調整功能,可優化磨削壓力和間歇時間,從而最大限度地減少浪費並縮短維護時間。此外,此資產是為可靠性和可持續性而構建的,並帶有用於緊急故障或維護的備份組件。EPO 222 A包括9個襯裏、10個磨料輪和13個研磨板。它具有集成的安全功能,例如低壓警告模型。它還包含一個收集塵埃的設備,通過捕獲任何空氣中的塵埃顆粒來改善工作環境。總之,EBARA EPO 222 A是一種非常精確和堅固的晶片研磨、研磨和拋光系統,對於在許多半導體晶片中生產高精度表面至關重要。其精密的研磨、研磨和拋光技術、集成的安全功能和用戶友好的設計可提高效率、生產力和成本節約。
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