二手 EBARA EPO-222A #293809677 待售

EBARA EPO-222A
ID: 293809677
CMP System.
EBARA EPO-222A是一種精密晶圓研磨、研磨和拋光設備,設計用於半導體和光學元件的超高精度、可重復拋光。該系統提供了多個嵌套的磁頭部件,允許從頭到尾的高吞吐量,並且每個步驟的精度最高。EBARA EPO 222A的主單元是一個高功率伺服電機驅動的頭部,安裝在懸臂上,能夠達到3000 RPM的速度。頭部具有可調的迎角,並具有可調的自動速度控制。另外兩個頭部部件,前磨頭和後磨頭,被設計為快速改變和重新校準。研磨頭具有兩個獨立的馬達,提供均勻的拋光動作;磨頭提供了積極的磨削輪廓。研磨頭和研磨頭均標配金剛石磨料拋光機,碳化鎢拋光機可選配配件。EPO 222 A配有耐用結構和集成真空裝置,可以高效有效地清洗工具。該機具有閉環質量控制工具,可實現一致、可重復的性能和可調節的端點控制。EPO 222A還具有一個內置的智能過程控制模塊,可提供有關晶圓進程的準確實時數據,以及一個板載診斷資產,可實現快速、準確的故障診斷。預先編程的配方庫和圖形用戶界面為操作員提供了直觀的體驗。該型號維護成本低,易於操作,具有即插即用的設計和最短的安裝和重新配置停機時間。這些設備具有用於連接和數據交換的模擬和數字接口,能夠最大程度地與其他系統集成,同時確保對流程調整和全面運行監測的完全可追蹤性。EPO-222A非常適合單機和多機應用,如生產晶圓加工、薄膜器件制造、半導體封裝和光學器件裝配。適用於多種材料,如SiC、SiO、GaAs、SOI。EBARA EPO 222 A具有集成的系統設計、高效的生產工藝能力和可靠的性能,是市場上可靠、精確的晶圓研磨、研磨和拋光裝置的理想選擇。
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