二手 EBARA EPO-222A #9396292 待售
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單擊可縮放
ID: 9396292
晶圓大小: 8"
CMP System, 8"
Load / Unload: Right to left
(2) Cleaners: Right to left
Roll / Roll unit: Right to left
Pencil unit: Right to left
YASKAWA Robot: 1, 2, 3, 4
RTP
Pusher: Right to left
Top ring: Right to left
Head type: Normal head
Turn table: Right to left
Dresser: Right to left
Slurry supply: Right to left
Line A, B
Type: Roller pump.
EBARA EPO-222A是一種先進的晶片研磨、研磨和拋光設備,其設計目的是在精密晶片的生產中提供無與倫比的精度和產量。該系統為最大的易用性而設計,包括一個21英寸的精密磨頭變速控制和橡膠背襯盤。磨頭能夠達到每秒20微米的磨削速度,即使是最復雜的晶圓制造工藝也是理想之選。該單元還包括一個多步墨盒研磨工藝,旨在實現一個完整的研磨一致性和均勻性,即使在最復雜的晶片。EBARA EPO 222A包括一個具有可調速度和恒壓研磨能力的菱頭研磨頭,以確保整個晶片的均勻研磨。摩擦環確保完整的研磨邊緣均勻準確。拋光頭包括一個可調的速度和傾斜,以適應不同類型的晶片,確保完全均勻的光潔度。EPO 222 A由三相2.2 kW電動機提供動力,能夠產生高達3300 rpm的轉速。該機還包括一個精密加工的冷卻風扇,以確保整個刀具的完整和均勻冷卻。精密加工的沖洗站確保了整個工作區域的高效、均勻的沖洗。該資產是針對具有多個緊急停靠點的卓越安全性而設計的。它還包括一個精密加工的進紙器,具有符合人體工程學的載荷臂和平衡,以便在整個過程中順利和受控地處理和運輸晶片。該模型能夠生產厚度達80 μ m的高精度晶片,是從半導體到醫療設備制造等多種應用的理想選擇。EPO-222A設備是任何尋求具有卓越功能和規格的強大系統的公司或研究機構的理想選擇。
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