二手 EBARA EPO-222T #9398270 待售

EBARA EPO-222T
ID: 9398270
晶圓大小: 12"
優質的: 2004
CMP System, 12" 2004 vintage.
EBARA EPO-222T是一種先進的超精密研磨、研磨和拋光設備,設計用於半導體行業。它能夠生產具有納米精度的超光滑表面,其速度比傳統的研磨和拋光系統快五倍。該系統高度自動化,具有集成的晶片裝載器和卸載器,以及一系列高級圖像處理功能,使其成為生產精確度和可靠性極高的高質量晶片的理想選擇。該裝置采用電拋光和機械磨損技術。用一個旋轉的克魯斯固定晶片研磨研磨,磨料介質直接送入研磨室,與少量水混合,精確分配到晶片表面。儀器隨後進行電拋光,利用電流和磨料介質從晶圓表面快速去除材料。該機的集成圖像處理功能通過對晶片表面進行拋光監測,確保對磨削、研磨和拋光過程進行微觀控制。圖像處理工具甚至能夠檢測晶圓表面上最小的缺陷和不規則性,從而使用戶能夠根據需要進行校正以產生所需的光潔度。EBARA EPO222T還具有多種自動化的安全功能,例如能夠檢測腔室過度填充和存在異物。它采用化學機械拋光和傳統的研磨拋光方法進行操作,是企業追求最高精度和精確度的理想選擇。總體而言,EPO 222T是一種強大而可靠的晶圓研磨、研磨和拋光設備,能夠生產出具有納米精度的非常光滑和均勻的表面。其集成的自動化和高級成像處理功能使其成為要求在短時間內獲得高精度曲面的企業的絕佳選擇。
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