二手 EBARA Frex 200 #9362887 待售
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ID: 9362887
Chemical Mechanical Planarization (CMP) system
EFEM:
Load port:
(2) EBARA
(2) TAKA
YASKAWA Robot
Position control: Motor + LM Guide (Harmonic gear)
Wafer transfer:
Wafer station: (2) Transporters
Turn over 1
Turn over 2
(2) Pushers L, R
(2) Lifters L, R
RTP
Polishing unit:
Top ring:
Retainer ring
Head type: MPTI
Head missing
Dresser:
(2) Diamond disks
(2) Air balance types
Table:
(2) Stainless steel materials
(2) Lapping surfaces
(2) KOYO Motors
Rotation: Polisher L, R
Slurry line:
(2) Standards
Option
Roller pump system
L and R polisher missing
Cleaner 1:
Method: (2) Roll scrubs (Upper and lower roller)
Mega sonic: (2) Mega jets (Upper and lower roller)
Wafer roller:
Hardness: (8) Duro90
Cleaner 2:
Method: (2) Pencil + SRD
Bevel sponge: (2) Pencil sponges
(2) SRD Dryers
Operation:
ETC:
Position: Front, L Side, R Side
(3) Touch Monitors, 15"
Option:
End point monitor:
(2) TCM: L Side, R Side
MPM8F Controller
ITM
APC / CLC: BC, FS
Atomizer
Utility:
DIW
(5) Upper exhaust connections
2000 vintage.
EBARA Frex 200是一種先進的晶圓研磨、研磨、拋光設備，設計用於在半導體晶圓上產生高度精確可靠的表面飾面。利用精密的研磨、研磨、拋光技術，實現了基板表面表面的無缺陷和無顆粒的表面光潔度，可以影響設備的產量。EBARA FREX200系統比傳統的研磨和拋光系統有幾個優點。FREX-200具有高精度的磨頭,利用專有的同步運動機構和直接驅動電機,提供卓越的均勻性和可控性。這使得在磨削過程中具有更高的精度和更高的產量和質量水平的設備制造。整個單元設計方便設置和操作，具有用戶友好的觸摸面板和直觀的界面。Frex 200機器還采用精密研磨和拋光技術，在基板上提供比機械拋光更光滑的光潔度。研磨板塗有特殊的拋光漿，有助於減少缺陷，保持基板表面均勻，同時拋光頭不斷旋轉；因此，它提供了一個高質量和均勻的表面光潔度。F-REX200還有一個除塵氣刀，這有助於工具保持清潔的工作環境。資產具有閉環控制模型,可幫助確保研磨、研磨和拋光過程的可重復性。具有先進的傳感器監控和檢測能力，采用最先進的圖像處理技術，允許零缺陷制造。該設備還設計了智能溫度控制系統，有助於在生產運行期間保持一致的溫度，確保穩定的制造過程和設備質量。總體而言,FREX200是一個非常先進和可靠的晶圓研磨,研磨和拋光單元.它在研磨、研磨和拋光過程中提供卓越的控制和均勻性,使用戶能夠獲得極其精確和高質量的設備制造結果。機器也是高度自動化的，使其高效和用戶友好。EBARA FREX-200是需要可靠、精確的工具以確保設備生產質量和高產量的制造商的理想解決方案。
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