二手 G&P TECHNOLOGY Poli-400L #9067708 待售

G&P TECHNOLOGY Poli-400L晶圓研磨、研磨和拋光系統是一種專為加工半導體晶圓而設計的極細公差的多功能一體機器。通過集成所有的研磨、研磨和拋光元件,Poli-400L為各種應用程序中的晶片處理提供了卓越的效果。適用於處理任何尺寸的晶圓，從4英寸到300毫米。G&P TECHNOLOGY Poli-400L設計用於同時研磨、研磨和拋光兩個直徑相同的晶片。它有兩個獨立的主軸電機為每個研磨，研磨和拋光過程。馬達設計為提供均勻的速度和功率，使過程始終一致。紡錘是可調的，以確保根據晶圓的大小被處理的最佳結果。該機還配備了真空吸塵能力，以避免潛在的汙染。它具有高達-80 kPa的可調真空壓力範圍，以及一個可選的水霧系統，以防止灰塵顆粒積聚。在研磨方面，Poli-400L既提供研磨板，也提供研磨磨料。它配有一系列研磨磨料，包括金剛石、碳化矽、氧化鋁等材料。磨盤具有多種形狀和尺寸，以達到所需的表面粗糙度和平坦度。對於研磨,G&P TECHNOLOGY Poli-400L的研磨板轉速高達6000rpm,可提供卓越的效果。它的研磨板可以具有多種形狀和尺寸，以達到最大的效率，並且可以用於尺寸達到300 mm的晶片。拋光是使用直接送入拋光室的拋光墊和漿料進行的。拋光室的設計是為了有效地捕獲泥漿和創造一個均勻，均勻的表面光潔度。漿料是含金剛石或氧化鋁磨料顆粒的水性磨料溶液，取決於晶圓的大小。該機還具有直觀的觸摸屏顯示屏,便於訪問所有拋光參數。這包括研磨速度、研磨角度和力、研磨壓力、旋轉速度和角度，以及調整和記錄所有拋光參數的能力。Poli-400L經過專門設計，可在晶圓的研磨、研磨和拋光方面提供優異的效果。它提供均勻的動力、可調的紡錘、真空吸塵、可調的研磨和研磨板，以及拋光墊和漿料，以最大限度地提高效率。這臺機器是任何尋求優越晶圓處理效果的人的完美解決方案。