二手 GMN MPS 2 R300 #293650837 待售

GMN MPS 2 R300是一種高效晶圓研磨、研磨和拋光設備，設計用於將半導體和光電晶圓精確加工至最高質量標準。結合高級工藝控制,MPS 2 R 300提供了一個自動化的材料準備解決方案,用於復制和準備所需的確切表面特性。該系統能夠處理高達300 mm的晶圓尺寸，以及處理各種基材，如矽、砷化​​和銨和磷化銨。其定位精度為0.05 μ米，速度控制精度為5 μ米/秒，保證了高精度加工。GMN MPS 2 R300配備了包括兩臺獨立型材磨床的雙面磨床單元。型材研磨機采用動態水冷機旋轉進料調節研磨和研磨主軸，確保晶片工作快速準確。該工具還具有一個自動化的地下研磨資產,以進一步調節曲面。這使MPS 2 R300能夠以更高的外形精度創建高精度曲面。為了確保最大程度的均勻性和表面光潔度,該型號還配備了先進的拋光解決方案,能夠處理扁平晶片和錐形晶片。這包括高壓拋光、超精密拋光和具有可調壓力、速度和化學混合物能力的化學機械拋光（CMP）。這允許在各種基材上進行高度精確的精加工。GMN MPS 2 R300還包含一個最終清洗站。該站通過清除表面的任何異物或碎屑，提供準確和一致的表面準備。總體而言,MPS 2 R300是一款用途廣泛且高效的設備,旨在滿足精密表面準備的最苛刻要求。GMN MPS 2 R300擁有先進的自動化工藝控制和集成拋光解決方案,能夠完美地制備各種晶圓尺寸和基板,從而獲得最高質量的結果。