二手IPEC PLANAR(晶圓輪磨,研磨及拋光)待售

IPEC PLANAR是晶圓研磨、研磨和拋光設備的領先制造商,在半導體基板加工中提供高精度和高效率。他們的系統以其先進的技術、創新的設計和卓越的性能而聞名。IPEC PLANAR的晶圓研磨單元采用兩步工藝，包括粗磨和精磨。這確保了晶圓表面材料的精確去除，從而產生優秀的平坦性和表面質量。這些機器配備了最先進的研磨工具和先進的控制工具，允許最佳的過程控制和可重復性。IPEC PLANAR的研磨資產是為晶圓的超光滑表面精加工而設計的。這些模型采用磨料漿料、研磨板和受控壓力的組合，以去除表面粗糙度並達到所需的平坦度。IPEC PLANAR的研磨設備以其高生產率、卓越的表面質量和低擁有成本而著稱。IPEC PLANAR的拋光系統采用化學機械拋光（CMP）工藝在晶圓上實現超平坦和鏡面。這些單元結合了精密控制的拋光墊、漿料和調理工具，以受控的速度去除材料，達到所需的表面光潔度。IPEC PLANAR的拋光機廣泛應用於半導體工業中，用於平面化、薄膜去除、氧化物拋光等應用。IPEC PLANAR晶圓研磨系統的一個實例是372M-44113-1。該系統專為大批量生產而設計,為各種晶圓尺寸和材料提供先進的研磨能力。它配備了先進的控制功能，如原位厚度測量和精密研磨力控制，以確保高工藝精度和可靠性。總體而言,IPEC PLANAR的晶圓研磨、研磨和拋光工具為半導體制造商提供了先進的工藝解決方案,可提供卓越的效果、更高的生產效率和成本效益。