二手 LAPMASTER 36E #293778393 待售
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單擊可縮放
ID: 293778393
優質的: 1984
Lapping system
(3) Ring style open face machine
Lapping plate speed: 70 RPM
Table size: 74” x 74”
Equipped with:
(3) Cast iron conditioning rings
(3) Adjustable ring roller guides (Yokes)
5 HP Main drive motor and electrical control
Slurry pump
Tank
Overhead distributor
Nordic ES-3 soft start control for lap plate
Automatic cycle timer control
Heavy-duty outside parts handling table
Push-button control station
Power supply: 60 Hz, 3 Phase, 230 V
1984 vintage.
LAPMASTER 36E是一種高度先進和精密工程的設備,設計用於各種材料的晶圓研磨、研磨和拋光,主要集中在矽、砷和的半導體基板上。該系統是專門為滿足半導體工業的嚴格要求而量身定制的,在半導體工業中,超精確和均勻的表面光潔度對於電子器件的性能和可靠性至關重要。36E單元的核心是其創新和堅固的設計,其特點是一個雙驅動機器,允許獨立控制工作載體和調節環。這種獨特的設置增強了處理不同材料的靈活性和多功能性,並在研磨、研磨和拋光階段實現了對壓力、速度和振蕩頻率等參數的精確控制。LAPMASTER 36E工具的主要部件包括高精度工作載體、固定磨料板、調理環組件和漿料輸送資產。該工作載體設計用於在加工步驟中牢固地固定基板,並確保晶圓與磨料表面的均勻接觸。固定磨料板配有戰略分布式的磨料顆粒,以高效一致的方式方便物料去除過程。調理環組件由多個調理環組成,用於在研磨和拋光階段維持基板表面的平整度和平行性。這些環可以獨立調整,以適應不同的材料性能和加工要求,確保在表面光潔度和平整均勻性方面的最佳結果。漿料輸送模型在向加工區域供應磨料漿料方面起著至關重要的作用,確保在研磨和拋光操作過程中基材的恒定潤滑和冷卻。該設備配有精密泵、過濾器和流量控制機構,以維持所需的漿液濃度和流量,從而優化材料去除速率,最大限度地減少基板表面的缺陷。除了其先進的硬件組件外,36E系統還配備了一個精密的控制單元,可以對關鍵流程參數進行實時監控和調整。操作員可以輕松設置處理配方、監控過程變量和分析數據,以確保跨多個批次基板的結果一致且可重現。總體而言,LAPMASTER 36E機代表了晶圓研磨、研磨和拋光應用在半導體行業的最先進的解決方案。憑借其精確的控制、先進的功能和用戶友好的界面,這一工具使半導體制造商在晶圓加工操作中實現了高質量的表面飾面、卓越的平坦度控制以及更高的生產率。
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