二手 R&D ARW-8C1A #9165239 待售

R&D ARW-8C1A
ID: 9165239
CMP system.
研發ARW-8C1A是一種最先進的晶圓研磨、研磨和拋光設備,旨在滿足現代微電子工業的苛刻要求。ARW-8C1A使用先進技術快速、一致地提供精確、可重復的結果。該系統采用上下研磨運動結合旋轉運動,使晶片表面變平拋光。這一過程被稱為「精磨」,確保達到所需的形狀和表面精度。該單元配有自動晶片裝卸機和連續研磨過程控制工具。它還具有靈活易用的計算機控制界面。除了其高效的晶圓研磨能力外,資產還可以進行研磨和拋光操作。研磨工藝采用高精度金剛石工具,實現優越的表面飾面。拋光過程消除任何表面缺陷,並產生光滑的鏡面光潔度。研磨和拋光工藝均可在濕材料或幹材料上進行。該模型設計方便操作,能夠以最小的用戶輸入維持高生產吞吐量。它也是高度可定制的,允許用戶在設備運行的同時調整旋轉速度和壓力等各種參數。這樣可以確保每一個零件的處理都非常小心和精確。研發ARW-8C1A是一個用途極為廣泛的系統,可用於處理多種材料,包括矽片、陶瓷盤和玻璃。對於那些希望提高生產效率和保持高質量標準的人來說是理想的選擇。該單元還能夠處理各種晶圓大小和形狀。
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