二手 STRASBAUGH 6EC #293648418 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 293648418
晶圓大小: 8"
優質的: 2000
CMP Wafer polisher, 8"
VIPRR Polishing head
Load station
2000 vintage.
STRASBAUGH 6EC晶圓研磨、研磨和拋光設備是大多數半導體材料以及MEMS和復合太陽能產品的背面稀釋、制備和拋光的理想解決方案。STRASBAUGH 6 EC具有強大的特性和功能,是各種材料和基材的最佳高性能系統。6 E C單元全自動，並配有晶圓處理機器人，允許無人值守操作。它是晶圓拋光柔韌性的極致，為晶圓加工的許多不同配置提供了連續研磨和化學機械拋光（CMP）。它旨在最大程度地減少零件到零件的可重復性問題,並提高零件處理的準確性。為了獲得最佳性能,STRASBAUGH 6 E C切片機由CNC控制,並配備獨特的切片機構。6EC具有獨特的庫存清除能力,能夠將晶圓級的稀釋時間減少多達50%。6 EC的切片研磨晶片創新方式保留了表面地形，變薄時間大大減少。STRASBAUGH 6EC還配備了全自動泥漿輸送機,可實現CMP性能的最大化。STRASBAUGH 6 EC包含高能效、低維護的晶圓研磨、研磨和拋光工具,可生產質量更高、缺陷更少的零件。它能夠產生超過規格要求的明亮、均勻的拋光和低缺陷光潔度。6 E C的切片、研磨、研磨和拋光工藝都可以由一個工作站控制，提供對工藝參數的完全控制。此外,STRASBAUGH 6 E C的CNC控制可釋放人員執行更多增值任務。6EC是為最大的操作員安全和人體工程學設計與安全屏蔽的外殼，溫度控制和除塵資產。它還具有內置冷卻和降噪系統。6 EC獨特的特點是優化了庫存清除,確保了過程的重復性和清潔操作,並具有標稱的粉塵產生和交叉汙染風險較小。STRASBAUGH 6EC晶圓研磨、研磨和拋光模型是一種用於半導體、MEMS和復合太陽能產品的薄切片、制備和精加工的完整而通用的解決方案。它的特性和功能以最小的停機時間提供了最高效的高質量、可重復的部件生產。
還沒有評論