二手晶片&光罩清洗機待售

晶圓和掩模洗滌器是半導體制造過程中使用的關鍵設備。這臺機器負責清洗和制備晶片和掩模,然後再用於集成電路的生產。洗滌器利用機械、化學和超聲波工藝的組合來清除晶片和面罩表面的汙染物。這是一個多步驟的過程,確保了材料的清潔度和完整性。首先,將晶片和口罩裝入洗滌器室內,在那裏進行高壓除離子水噴霧。這種水可以去除表面可能存在的任何松散顆粒。接下來,洗滌器采用化學物質和超聲波振動的組合來清除任何頑固或粘附的汙染物。這一過程中使用的化學物質是專門配制出來溶解晶片和口罩上可以發現的不同類型的汙染物,如光致抗蝕劑、有機薄膜和金屬雜質。超聲波振動會產生高頻波,攪動晶片和掩模的表面,有助於清除殘留的顆粒,從而增強清潔過程。清洗後,用去離子水徹底沖洗晶片和口罩,確保清除殘留的化學物質。在這一步驟中特別註意防止引入任何新的汙染物。總體而言,晶圓和掩模洗滌器通過確保生產過程中使用的材料的清潔度和完整性,在半導體制造中起著至關重要的作用。不斷改進洗滌器技術,對於滿足半導體行業的嚴格要求,提升集成電路的能力至關重要。

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