二手 E+H METROLOGY MX 2012-RA-1L #9311190 待售

E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 2012-RA-1L是先進的晶圓測試和計量設備。它使半導體制造商能夠手動或自動測量晶片基板,確保達到臨界尺寸和位置公差。該系統具有自動校準級,可實現準確、一致的校準和測量性能。該裝置還配備了MEI-CMOS（微型機和電氣檢測）機器，用於無損檢測，確保任何測量範圍的信噪比都很高。這使得每個測量之間的結果具有可比性並且非常精確。該工具可以測量各種晶圓，從工業IGZO晶圓到微機電資產（MEMS）晶圓。測量包括臨界尺寸、薄膜測量、叠加測量、宏缺陷測量和電阻測試。此外，該模型還具有高精度掃描電子顯微鏡（SEM）的特點，能夠識別和精確測量各種缺陷。為了檢測非常小的缺陷,SEM還具有高達50,000倍的高放大倍率。對於晶片或其他半導體基板等大型基板，設備還可以使用旋轉盤拋光器進行輪廓測量。這為大曲面的測量和分析提供了高精度和準確性。除了各種測量之外，該系統還提供分析和報告能力。它可以創建高度詳細的報告,其中包括所有必要的數據,以便進行可追蹤性和可追蹤性分析以進行審計。該單元還具有各種數據管理功能,例如能夠將數據存儲在可移動介質上,以及將數據從計算機遠程傳輸到外部計算機,或者將數據傳輸到Internet和從Internet傳輸。總體而言，E+H METROLOGY MX 2012-RA-1L是一種先進的、高度精確的晶圓測試和計量工具。它具有多種功能,可實現準確的測量,並為審計目的提供數據管理和報告功能。該資產是半導體制造和測試的重要工具。