二手 E+H METROLOGY MX 203-6-33 #9360725 待售
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ID: 9360725
晶圓大小: 4"-6"
優質的: 2008
Wafer measurement system, 4"-6"
Power supply: 240 VAC
2008 vintage.
E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 203-6-33是一種強大可靠的晶圓測試和計量設備。它旨在在半導體和特種工藝應用中提供高精度的測量和分析。該系統具有六軸機器人化的舞臺，能夠在1200 µm的範圍內快速精確地移動。該機器人可在幾分鐘內掃描晶圓並成像。它在掃描時使用閉環伺服單元來保持其位置，並且能夠重復多模具掃描。MX 203-6-33還具有高分辨率的數字成像機。該成像工具能夠捕獲分辨率高達1500萬像素的每個模具的圖像。數字成像資產還提供了強大的圖像分析工具。這些包括對比度和邊緣檢測、像素強度分析、形狀識別和模式識別。除了成像，E+H METROLOGY MX 203-6-33可以進行多種晶圓表征測量。這些包括電阻率、電容和泄漏等電氣參數，以及表面剖面圖和檢查等物理參數。該模型能夠測量晶片表面上的小缺陷，尺寸可降至1微米。MX 203-6-33還提供了一個軟件套件來控制設備行為和分析測量結果。其中包括一些高級功能,如多站點內存、遠程控制和趨勢分析。該系統的用戶友好界面使得設置測量和查看結果變得容易，成為研發實驗室的理想選擇。總而言之，E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 203-6-33是一個優秀可靠的晶圓測試和計量單元。它提供了廣泛的功能，使其適合各種不同的任務。它具有強大的功能和易用性,是任何希望提高晶圓測試和計量能力的設施的理想選擇。
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