二手 E+H METROLOGY MX 204-8-25-Q #9227071 待售
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單擊可縮放
ID: 9227071
優質的: 2007
Wafer geometry gauge
Size: 125 x 125 and 156 x 156
Thickness range: 200 µm to 600 µm
Accuracy: 1 µm
Resolution: 0.1 µm
Sensors embedded in radial pattern
Warp and Bow-BF (Does not include gravity correction)
2007 vintage.
E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 204-8-25-Q是一種尖端設備,可精確測量用於各種制造應用的晶片。這個系統配備了一個多功能平臺,可以以多種不同的方式使用。該單元用於測量和分析晶片的物理特性,如厚度、平坦度、曲率、粗糙度和傾斜度。E+H METROLOGY MX 204-8-25-Q配備了多種不同的技術,可以進行精確和精確的測量。用幹涉傳感機測量晶圓的表面輪廓。這種精確的技術還能夠測量表面的微小增量變化,確保晶圓地形的準確表示。E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 204-8-25-Q還采用了專門的光學探測工具,能夠以令人難以置信的精度測量晶圓的厚度。此資產可以收集有關晶圓的物理特性(如厚度、均勻性、不均勻性、曲率和傾斜)的大量數據。此外,還可以使用多焦點成像窗口以極詳細的方式捕捉晶圓的圖像。該模型還配備了許多自動化和基於軟件的功能,大大簡化了測試和計量過程。該設備具有快速連續測量多個晶片的能力,手動輸入最少。軟件系統還可用於存儲生成的數據,並根據預定參數自動進行分析。E+H METROLOGY MX 204-8-25-Q是能保證準確結果的高性能單元。它結合了先進的技術和自動化的特性,使它成為任何人尋找一個先進的晶圓測試和計量機器的理想選擇。
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