二手 E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q #9234108 待售

ID: 9234108
優質的: 2006
Wafer measurement system Square / Pseudo-square: 125-156 mm Gauge type: MX 204-8-25-q Thickness range: 200 - 600 μm Real: 180 - 600 μm CE Marked 2006 vintage.
E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q是一種功能強大的自動化晶圓測試和計量設備,旨在提供精確的測量,同時提供靈活性以符合要求最苛刻的應用程序。該系統的核心是一個先進的8通道、37通道綜合測量站。該單元通過可靠的基於CCD的光學機器提供高精度和可靠性。MX 204-8-37-Q利用快速掃描和過程控制算法提供了卓越的可重復性。該機器可用於表征各種設備結構的各種參數,如臨界尺寸、平整度和CD均勻度。該工具還能有效測量先進設備的拓撲結構,實現工藝優化,提高晶圓產量。其50kHz激光掃描提供了前所未有的快速跟蹤水平,具有非常寬的動態範圍和非常低的散粒噪聲水平。該資產非常適合掃描電子顯微鏡、AFM/SPM和細胞內粒子(PIC)二次電子成像等應用。E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q還具有支持多種晶圓測試和測量方法(例如動態非接觸傳感、掃描和成像)的多模式操作。此外,該模型還提供了一系列簡化操作的選項,提供了廣泛的功能,允許用戶根據需要配置設備。該系統利用先進的技術提供了最高的效率、準確性、精確度和可重復性。MX 204-8-37-Q配備了直觀的用戶界面,使用戶可以輕松地控制單元,而無需任何機器編程方面的專業知識。它利用LabVIEW軟件為用戶設置工具提供了高度的靈活性和效率。最後,E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q是一種自動化晶圓測試和計量資產,具有極好的精度和準確性,具有高度的靈活性,使用戶能夠根據自己的獨特需求配置模型。其50kHz的激光掃描技術、動態非接觸傳感和成像模式提供了高效可靠的測量解決方案。用戶友好的界面和直觀的軟件進一步確保了快速、輕松的設置和操作。
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