二手 E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q #9234110 待售

E+H METROLOGY E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q是利用先進技術構建的晶圓測試和計量設備,使其能夠測量和分析半導體工業中的復雜晶圓和其他組件。該系統設計用於薄膜和復雜表面測量所需的一致、高精度和精確的測量。E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q單元采用共焦測量技術，精確測量了三維表面地形特征，如垂直懸垂和步高變化，精度和分辨率都很高。該機器能夠測量直徑達200毫米的晶片，並具有快速釋放晶片支架，可快速可靠地更換基材。此外,測量站還可以滿足多個目標和探測配置的利用,以滿足特定的測試要求。該工具還具有專門為快速準確測量平面和臺階曲面而設計的旋轉級。它配備了各種各樣的光學系統、可選的微操作階段和復雜的模式識別資產，以自動識別、選擇和確定具體特征和測量的大小。該模型包括一個高速圖像采集模塊以及連接到功能強大的PC的高端攝像機，允許用戶以多種格式捕獲和存儲高分辨率數據，從而便於傳輸和分析結果。它還集成了一個前沿的程序界面，簡化了創建動態和交互式用戶界面來處理精確測量的任務。總體而言，E+H計量E+H計量MX 204-8-37-Q是一種有效的晶圓測試和計量設備，能夠提供高精度、高精度、高精度的重復測量。該系統具有廣泛的特點和先進的技術，可以為任何晶圓測試和計量應用提供理想的解決方案。