二手 E+H METROLOGY MX203-6 #9198431 待售

ID: 9198431
晶圓大小: 6"
Wafer geometry system, 6".
E+H計量E+H計量MX203-6晶圓測試和計量設備是測量集成電路芯片輪廓和尺寸的前沿、高精度系統。該單元利用一個專有的光學擴音器在芯片尺寸上提供高度的精度。光學器件可手動調節,可定制芯片尺寸選項,包括較大的晶片區域。該機器具有晶片剖面計量的兩階段計量工作流程,第一步是測量晶片相對於芯片尺寸的邊界,以及準確表征晶片的拓撲特征。工作流程的第二步是專門描述芯片的各個電路及其各自的尺寸,從而提供盡可能高的精度級別。E+H METROLOGY MX 203-6利用先進的光學感測工具來測量晶片的輪廓。該資產能夠從晶片區域內的任何點檢測芯片輪廓的角度、寬度、深度和高度,使其成為大型晶片區域的理想模型。此外,該設備還將其高精度光學器件與高級算法相結合,以準確檢測芯片的層、尺寸和形狀。利用先進的光腔技術,MX203-6晶圓測試和計量系統,提供精確度幾納米。利用這項技術,該裝置甚至可以檢測到晶圓任一角的單個納米變化。這使得機器在檢查缺陷或任何其他難以通過常規技術識別的不規則性方面極為有用。該工具還配備了多種自動化功能,如自動放大和重新聚焦,以及多種可用於測量芯片配置文件的圖像分析工具。此外,資產還具有方便的自我校準機制,可簡化設置過程。E+H METROLOGY MX 203-6晶片測試和計量模型為晶片製造者提供了一個工具,以精確測量晶片輪廓和尺寸,以及檢測缺陷。該設備具有先進的光學特性和自動化特性,提供高精度和便利性,是芯片制造商的理想選擇。
還沒有評論