二手 EPIPLUS / ETAMAX Plato #9260679 待售

看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。

ID: 9260679
晶圓大小: 2"-8"
優質的: 2010
PL Mapping system, 2"-8" X-Y Stage Cassette loading Flat zone finder (2) Cassettes for 2"-8" wafer Spectrometer: Wavelength range: 420 nm Hardware pixel resolution: 0.13 nm/pixel Resolution: 0.5 mm for 2" 1 mm of 4" 2 mm for 8" Thickness: Measurement method: Optical interference by reflection Accuracy / Reproducibility: 3% for GaN film Photo Luminescence (PL): Measurement items: WP (Peak) WD (Dominant) Integrated and peak intensity FWHM Accuracy: 5% (Peak intensity / Integrated intensity) <1 nm (Wp / FWHM) Intensity measurement: High sensitive photo detector (3) Pumping lasers: 266, 405, 532 Bowing measurement: Reproducibility: ±5 um Measuring range: 20 - 4000 um Cap (2" Profile): <10 sec Bowing mapping Input voltage: 220 V Current: 30 A Compressed air: 0.2~0.4 MPa 2010 vintage.
EPIPLUS/ETAMAX柏拉圖是KLA Tencor公司開發的晶圓測試和計量設備。它旨在檢查和測量半導體晶片上的半導體器件,以確保這些部件的質量和可靠性。該系統采用了一系列先進的檢驗和計量技術,對晶圓以及與其相關的各種參數進行精確的測量、剖析和檢驗。ETAMAX柏拉圖單元由幾個核心元素組成:一系列自動化晶片級、高級光學和機載工具來分析晶片。自動晶片級的功能是將晶片精確定位在光學器件下方,然後捕獲晶片的關鍵圖像進行分析。負責對晶片進行成像和掃描的高級光學器件可配置為各種光學功能,以滿足計量要求和檢查目標。EPIPLUS柏拉圖機器上的板載工具包括先進的、最先進的軟件,它可以自動識別缺陷的過程。該軟件可以根據圖像模式識別各種類型的晶片缺陷,如結節、空隙、微裂紋和其他表面異常。此外,板載工具還包括計量掃描儀和錄像機,允許用戶測量晶圓的各種參數,如CD(臨界維度)測量、基於CD的產量、叠加測量等等。柏拉圖工具配有模塊化設計,可以方便地添加或移除各種工具和組件,以滿足客戶的需求。因此,可以根據任何給定晶圓開發過程的需要對資產進行高度定制。模塊化設計還在模型配置和可擴展性方面提供了廣泛的靈活性。EPIPLUS/ETAMAX柏拉圖設備以其先進的性能和超高精度而聞名。它已被證明能夠提供可靠和可重復的測量結果,這有助於降低出錯風險和提高工藝產量。總體而言,ETAMAX柏拉圖是KLA Tencor公司開發的先進晶圓測試和計量系統。其巨大的設計靈活性、先進的元件和可靠的結果使其成為晶圓檢驗和計量過程中的熱門選擇。
還沒有評論