二手 FILMETRICS F10-ARc #293645023 待售
網址複製成功!
單擊可縮放










ID: 293645023
優質的: 2016
Reflectance analyzer
BK7 Reflectance standard wafer
Hard coat thickness standard wafer
USB Cable
Laptop
2016 vintage.
Filmtrics FILMETRICS F10是一個最先進的晶圓測試和計量平臺,專為半導體行業的先進半導體過程控制而設計。它提供了各種計量能力的組合,如制圖、光學檢查、光譜橢圓偏振和散射測定法,以及獨特的粒子計量能力,使高級工藝控制成為可能。它是市場上最先進的晶圓測試和計量系統之一,提供廣泛的功能。Filmtrics FILMETRICS F 10基於先進的光學、視覺和光譜技術的組合。它擁有一個獨特的視覺平臺,稱為「Vision64視覺設備」,包括先進的成像能力和先進的圖像處理算法相結合,以實現晶圓級過程控制的詳細圖像分析。該系統還配備了「LCM計量」控制軟件,具有用戶友好和直觀的控制軟件,用於控制整個單元。Filmtrics F10具有完全自動化、定期和靜態的光學檢查功能。機器有兩個大的觀察窗口,可以同時檢查多達四個具有多個工藝步驟和層的整個晶片。該工具還集成了微米掃描光學器件,用於晶圓級工藝控制的詳細表面測量。F 10具有獨特的計量能力,能夠在晶圓級表征各種工藝和結構參數。它可以測量膜厚度和分辨率高達6.5微米的CD變化,以及折射率和消光系數測量,以更好地評估材料特性變化。它還能夠通過可選的elypsometer增強功能來測量各種材料(包括epi層)的可重復和可重現的光學厚度。該資產還集成了粒子汙染分析、粒度分析、形態分析和缺陷分析的最新技術。結合上述計量能力,FILMETRICS F10提供了全面的晶圓級工藝和質量控制能力。Filmtrics FILMETRICS F 10還提供多種取樣模式,用戶一次最多可以選擇四個晶圓來測量過程和結構參數,讓用戶可以靈活地優化和改進他們的過程。該模型還集成了一個樣本位置識別設備,該設備利用機器視覺來獲得準確和一致的樣本位置。總之,Filmtrics F10是一個強大而先進的晶圓測試和計量系統,提供卓越的過程控制和質量保證能力。其獨特的計量學和粒子計量學能力相結合,使其成為半導體過程控制的理想選擇。
還沒有評論