二手 IMS LVIS-III #9134183 待售

IMS LVIS-III晶片測試和計量設備旨在提供對薄晶片和器件結構以及產量和可靠性問題的高度精確和可重復的測量。它是半導體行業中各種應用，如故障分析、過程監測、計量等的一個完善可靠的工具。LVIS-III由高分辨率、全場成像系統、嚴密的溫度穩定環境、低噪聲操作等幾個獨特的特性組成。全場成像單元可達到高達0.5um的分辨率,以便精確測量晶片上的特征。此外,計算機還提供了一種特殊的成像功能,可以將多個圖像對齊到一個更大的圖像中,從而提供更大的視野。精確的溫度控制環境確保了最穩定的精確測量條件，而低噪聲放大器進一步提高了精度。IMS LVIS-III具有檢測和分析各種特征和缺陷的綜合計量能力。它能夠檢查和隔離晶片上甚至很小的特征，如凸起的顆粒、劃痕、表面紋理或亞微米的地下缺陷。它還配備了先進的缺陷分析工具，如故障分析截面、掃描X射線熒光、掃描離子顯微鏡等，以密切分析各種缺陷。LVIS-III工具設計用於快速可靠的數據收集。它消除了對物理晶片處理的需要,這種處理最多可以節省大量時間和成本。該資產還允許同時測量多達25個地點，以加快晶圓的測量速度，並可以提取測量以進行統計分析，從而為用戶提供完整的分析包。總體而言，IMS LVIS-III晶圓測試和計量學模型是半導體行業的有力工具。它的高分辨率成像、溫度穩定的環境和先進的計量能力使其成為晶圓測試、可靠性分析和過程監控的理想選擇。