二手 KLA / TENCOR 5100 XP #293727707 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 293727707
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
Overlay measurement system, 8"
Wafer loader system:
Transport system: (2) Cassette loader / unloader
Pre-alignment: OF Detection function
Control console:
Menu terminal
Image display terminal
5501 Analysis station
DEC VLC 4000
RAM: 16 MB
QIC Tape drive: 320/525 MB
Floppy Disk Drive: 3.5"
Image hard copy
Printer
SECS
Patlite
Hard Disk Drive (HDD): 2 GB
Wafer thickness: 725 µm
Minimum die size: 3 mm
Maximum die size: 50 mm
Measurement throughput: <85 Sheets / hour
Clean dry air:
Flow rate: 84.9 l/min
Pressure 603 kg/cm² - 7.7 kg/cm²
Tube, 1/4"
(3) Vacuums:
Hg: 635 mm
Flow rate: 28.3 l/min
Tube, 1/4"
Exhaust:
Duct system: 14.5"
Flow rate: 250 cfm
Missing parts
Temperature: 19°C - 25°C
Power supply: 200 VAC, 20 A, Single phase, 50/60 Hz
1996 vintage.
KLA/TENCOR 5100 XP是一種高度先進的晶圓測試和計量設備，設計用於高端研發實驗室。該系統使用先進的光譜技術來測量晶圓的物理性質。該單元提供了光學和電阻率、微觀結構、薄膜厚度等參數的精確測量，使研究人員能夠優化尖端微電子產品的制造。該機器具有強大的檢測工具，能夠成像12英寸直徑內的晶片，精度和靈敏度為0.1微米。此外,該資產還可以在不到幾分鐘的時間內快速掃描和分析單個晶片的整個表面,使其成為快速轉動過程的理想選擇。KLA 5100 XP還具有用於晶圓定位的兩個獨立的電動級。這些階段能夠同時進行線性和旋轉運動，為研究人員提供了在一個會話中檢查多個標本的靈活性。這些階段非常精確，分辨率達到1微米。該模型還具有精密光學顯微鏡和高性能成像相機。該相機能夠捕捉單個表面或其他單個特征的圖像,如細線或分辨率高達0.1納米的切割深度。顯微鏡為研究人員提供了深入分析樣品的能力，提供了可用於進一步優化微電子過程的寶貴信息。TENCOR 5100XP的其他特點包括自動晶片表面檢測設備、用於測量晶片集中化的自動偏轉數據收集系統以及用於確定粒徑和位置的自動粒子測試單元。總之，5100XP是一種先進的晶圓測試和計量機器，旨在滿足最苛刻的研發需求。該工具為研究人員提供了快速準確測量晶圓性質的靈活性，使他們能夠優化自己的工藝，生產出質量最高的微電子元件。
還沒有評論