二手 KLA / TENCOR 6220 Surfscan #9174323 待售
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ID: 9174323
Defect inspection system, 4"-8"
Laser hours: 2,184
PSL Sizing
Automatic wafer handler
Sensitivity:
Most surfaces: 0.20μm @ 95%
Polished surfaces: 0.10μm @ 95%
Detects sub-micron particles on bare silicon
Capture rate: 0.12μm defect sensitivity on bare silicon
Repeatability:
Less than 1.0% at 1 standard deviation
Mean count: > 500
Diameter latex spheres on bare silicon: 0.204
Contamination:
Less than 0.005 particles / cm > 0.15 μm
Haze sensitivity: 0.02 ppm
Defect map & Histogram:
Zoom illumination source
Argon-ion laser: 30 mW
Wavelength: 488 nm
2D Signal integration: 50μm Spatial resolution
Non-contaminating robotic handler
Random access: Sender / Receiver unit.
KLA/TENCOR 6220 Surfscan是一種完全可編程的晶圓測試和計量設備，具有多種光度、原子力顯微鏡（AFM）、地形和光譜能力。非常適合用於納米制造、工藝控制以及先進半導體材料的研發。它與其他計量系統集成的能力使得它成為產品和工藝開發的絕佳選擇。KLA 6220 Surfscan的高密度光學檢測系統捕獲缺陷站點的圖像和地圖，然後自動對其進行分類和測量。它包含用於膠片檢查的多模式掃描模式,在三個維度的膠片集上以及在單個膠片表面上進行映射。這使得晶圓映射和一系列缺陷分析很容易發生。TENCOR 6220 Surfscan是為最大的通用性和準確性而設計的。它使用多種激光器提供晶圓表面缺陷的精確測量。其成像單元基於概率算法，可以區分缺陷特征，如凹坑、痕跡和劃痕。它還可以非常精確地檢查晶圓的垂直和水平表面上的粗糙度。6220 Surfscan還包括可靠的計量系統,可精確測量薄膜厚度和材料特性,如反射率和折射率。其光學、AFM和光譜系統協同工作，對化學成分、層厚和晶體生長方向進行精確測量，以幫助確保過程控制。KLA/TENCOR 6220 Surfscan提供多種接口選項,包括化學檢測和電氣測量。它還具有強大的軟件來簡化晶片對齊和捕獲圖像的過程。結果，機器可以被研究人員和工程師用來開發和測試新的材料、工藝和技術。總之，KLA 6220 Surfscan是一種先進、通用的晶片測試和計量工具，能夠精確測量和檢測缺陷。憑借其多模式掃描能力和可靠的測量，是先進半導體材料產品和工藝開發的絕佳選擇。
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