二手 KLA / TENCOR Alpha Step 500 #189545 待售

KLA/TENCOR Alpha Step 500晶片測試和計量設備是一種用於通過測量半導體晶片上的薄膜深度和覆蓋層來表征和監測薄膜材料發展的工具。該系統結合了幾種先進的計量技術，如原子力顯微鏡（AFM）、橢圓偏振和光譜學，提供了薄膜的詳細表征。KLA Alpha Step 500具有高精度的掃描機制，使其能夠測量低至納米級精度的薄膜。儀器能夠以50、100、150、200和250 nm的增量掃描,以精確測量深度。該單元還能夠測量薄膜厚度到低至200 nm的厚度,並且可以識別薄膜厚度的細微變化,直至1 nm的增量。此外，該機還能夠分析各種薄膜材料，包括鋁、銅、氧化鋅和硝酸全新。TENCOR ALPHASTEP 500工具還能夠測量薄膜沈積速率，以監測薄膜的發展。例如，資產可以測量薄膜隨時間的沈積速率，從而使開發人員能夠調整材料的增長率（例如，增加或減少增長率），以便優化所需的特性。另外，ALPHASTEP 500具有測量被測材料折射率的能力，可以提供對膠片物理特性的洞察。KLA/TENCOR ALPHASTEP 500還具有監測表面汙染的能力，這可以成為芯片整體性能的關鍵因素。該模型能夠測量直徑低至0.7微米的表面顆粒，並能夠檢測到塵埃和水顆粒等汙染物的存在。此外，該設備能夠識別和測量顆粒的大小和形狀，以便對薄膜進行準確和全面的表征。TENCOR Alpha Step 500除了在生產過程中提供對晶片表面的詳細洞察外，還可用於檢查成品是否存在顆粒汙染。該系統可以識別基質中的嵌入顆粒，還可以分析空隙、針孔等材料缺陷。該單元還可用於測量晶圓的表面地形，以提供粒子形式和位置的詳細信息。總體而言，KLA ALPHASTEP 500是一種高度精確的晶圓測試和計量機器，提供薄膜和基板的全面表征。該工具對薄膜的特性提供了詳細的見解，可用於監測薄膜的發展，測量沈積速率，檢查成品。該資產還具有識別和測量尺寸小至0.7微米顆粒的能力，可以對材料缺陷和表面地形進行深入分析。