二手 KLA / TENCOR LMS IPRO5 #9163708 待售
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已售出
ID: 9163708
優質的: 2012
CD Metrology system
Photomask registration
0.25 inch photomask and EUV masks
Static positional repeatability: 3s (Short therm: 0.5 nm)
Dynamic positional repeatability: 99.7% limit (Long term: 0.8 nm)
Positional accuracy: 99/7% limit (Long term): 1.0 nm
Light mod: Reflective and transmitted
Measurement principle:
Edge detection of parallel edges
Center of Gravity algorithm
Pattern centrality measurement capability
Illumination source wavelength: 266 nm
Objective lens: 80x, NA 0.80
Working distance: 6.9 mm
Stage laser positioning system: 0.15 nm (LAMDA / 4096)
Wavelength compensation: ETALON
Field of view: 22.5 microns by 22.5 microns
Handing: RSB 200 SMIF input / output
Mask stocker capacity: 2 x 4 6025 reticles
Software:
MS Windows 7
KLA Job processor
KLA LMSCOrr
KLA Deva
KLA CD Calib
KLA System monitor
KLA LMSASCII
KLA GEM Module
2012 vintage.
KLA/TENCOR LMS IPRO5是一種高性能晶圓測試和計量設備,有助於提高制造生產率和工藝一致性。它具有高精度的測量和可靠的操作,非常適合半導體行業的公司。該系統擁有強大的軟件平臺，支持自動測試數據分析和高級流程控制。該單元由幾個組件組成，這些組件協同工作以精確測量特定晶片的屬性。其光學模塊提供了每個晶片臨界尺寸的自動測量。其運輸模塊負責將適當的模具交付給晶圓企業。機器的芯片組由幾個復雜的芯片組成，這些芯片提供控制工具所需的邏輯、電機控制和數字信號。該工具的集成計量學功能可收集和分析各種測試數據,如IQ、OQ和PQ度量,而無需手動編程。它還具有鏡面反射率，這有助於提高測量的準確性和靈敏度。此外,其Auto-Focus功能有助於減少手動幹預的需求,從而提高流程可靠性。該資產還具有易於使用、直觀的軟件用戶界面。它允許操作員輕松設置自己的測試參數，校準測量模型，分析數據。這種直觀的用戶體驗使即使是最沒有經驗的操作員也能快速使用設備。KLA LMS IPRO5設計靈活、可擴展，以滿足現代半導體行業的需求。它提供了廣泛的工藝能力和先進的計量解決方案。該系統也高度可靠，易於維護。此外，其模塊化設計允許升級。所有這些特性使其成為完善的晶圓測試和計量單元，以提高制造生產率和工藝統一性。
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