二手 KLA / TENCOR M 300 #9226127 待售

KLA/TENCOR M 300晶圓測試和計量解決方案是專門為可制造性和過程控制應用而設計的先進光學成像平臺。該設備利用獨特的專利模式，以極高的精度和精確度測量來自集成晶片的量子電信號。KLA M 300平臺的光頭和步進電動機驅動級允許在各種缺陷級別上進行大面積測量和高分辨率成像。這使得它能夠準確掃描可能對設備性能產生負面影響的微小缺陷和汙染物（如灰塵和空洞）。它還可以檢測光刻過程影響IC器件層時可能發生的過程集成影響。系統的成像功能包括自動缺陷分類（ADC）和檢查與審閱（I&R）功能,可快速、全面地審閱和傳輸所獲取的圖像/數據。該設備可檢測10nm大小的缺陷,可重復性σ 3個。此外，平臺高度模塊化，允許使用多通道光學頭和最先進的全場成像。TENCOR M 300平臺還包括CoAr和雙模式應用等幾個優勢。CoAr應用程序允許快速的測試時間以及高精度的掃描以檢測過程集成影響和微缺陷。這相當於增加了吞吐量和貨幣儲蓄。雙陣列應用是一種自動化的雙通道缺陷檢測技術，它使用兩個獨立的區域來檢查單個晶圓。M 300的輸出由KLA AMPLEX軟件管理,因為它處理和存儲所有圖像和相關數據,從而可以快速輕松地進行基線比較。此外，平臺設計方便維護，可快速、經濟高效地進行升級。KLA/TENCOR M 300晶圓測試和計量解決方案是一種最先進的機器,在任何環境下都具有高度的可靠性、可靠性和準確性。憑借其無與倫比的技術和能力，它是確保可制造性和過程控制的完美工具。