二手 KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OP 2600 #9214771 待售

ID: 9214771
晶圓大小: 8"
優質的: 1994
Film thickness measurement system, 8" Multiple layers Refraction index Thick and thin film Extinction coefficient Reflectivity measurements (2) Cassette loader stations Thermoelectrically cooled diode laser: 675 nm Lamp: Tungsten halogen Measurements: Multi-layer and multi-parameter on thin ONO & OPO film stacks Polish slopes: 7 micron x 7 micron Wafer ranging: 4"-8" Thick dielectric films BPR >500A BPE <500A Spectrometry Visible: 450 nm-840 nm High index films: C-Si, Poly-Si, A-Si 1994 vintage.
KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600是一種高性能晶圓測試和計量設備,旨在提供準確可靠的晶圓測量。該系統利用先進的光學和綜合計量,快速準確地評估晶片的物理特性,包括材料厚度、均勻性、地形、粗糙度和其他參數。該單元對晶片薄膜和晶片表面特性進行高速、自動的非接觸測量。它具有自動化的精密校準過程,以確保結果的準確性,並配有高分辨率成像機以提供晶圓特性的最大分辨率。該工具設計為用戶友好,具有直觀的用戶界面,可提供快速操作和數據分析。KLA OP 2600利用5軸級進行精確的3D納米級測量,並具有全半自動映射功能。它可以在自動加載/卸載過程中最多存儲8個晶片,讓大量晶片可以快速、輕松地進行測試和測量。該資產可以以高達0.5 um的分辨率測量晶圓地形,並在3D維度上具有納米可重復性。它還包括一系列專門用於各種測量和測試技術的計量軟件,例如Advanced Process Control,它提供對過程參數的實時監控,以確保最佳晶圓質量。此外,它還可以與SPC軟件集成,從而實現進一步的流程優化。TENCOR OP 2600可配置自動視覺工具和/或光學顯微鏡進行缺陷分析和檢查,並包括一系列用於高級成像分析和缺陷識別的軟件選項。此外,還可以使用自定義參數升級模型,以確保與行業標準的兼容性。總體而言,THERMA-WAVE OP 2600是一種用於精確測量和分析晶圓特性的全面且價格合理的解決方案。它采用最先進的計量和成像技術設計,以提供準確的結果,具有高度的可重復性和可靠性。適用於一系列晶圓制造應用,為質量控制和工藝優化提供了高效的解決方案。
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