二手 KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OPTIPROBE 3290 #9124948 待售

ID: 9124948
晶圓大小: 4"-8"
Thin film measurement system, 4"-8" (2) Cassette loader stations Beam Profile Reflectrometry (BPR): Thick dielectric films > 500A Beam Profile Ellipsometry (BPE): Thin dielectric films < 500A Thermo electrically cooled diode laser: 675 nm Tungsten halogen lamp for spectrometry mode: 450 to 840 nm Spectrometry: Index films: C-Si Poly-Si A-Si Spot size: 0.9 Micron Optical parameters: Film thickness multiple layers Wide range thick and thin films Wide range index of refractions Extinction coefficient and reflectivity measurements Multi-layer and multi-parameter measurements: Thin ONO OPO Film stacks.
KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OPTIPROBE 3290是一種晶圓測試和計量設備,旨在準確評估半導體器件的質量和均勻性。該系統以高精度、高速度和高精度全面測量整個晶圓的各種器件參數。KLA OPTIBE 3290由一個3290光學顯微鏡模塊和一個3200自動晶圓處理單元組成。3290顯微鏡通過增強的光學、增強的分辨率和廣闊的視野提供了強大的診斷信息。3200自動晶片處理機提供業界領先的吞吐量和準確性,允許高采樣吞吐量。3290 Optiprobe提供了測量設備關鍵特征大小、側壁角度、拐角舍入、形狀、線寬粗糙度等的功能。此工具提供卓越的分辨率來捕捉設備功能上的最小差異。它還為精確測量納米結構提供了增強的靈敏度。此外,3290針對非接觸和接觸計量進行了優化,提供了精確測量和剖析甚至最困難的幾何形狀的能力。TENCOR OPTIBE PROBE 3290還提供業界最先進的成像功能,包括擴展景深和3D針跡成像。此資產包括專有的KLA圖像采集和處理算法,這些算法為最具挑戰性的成像應用程序提供了更高的準確性和分辨率。OPTIBE 3290提供自動缺陷審查,能夠快速糾正缺陷以提高質量。3290提供了交互式審閱界面和可定制的報告選項,使用戶能夠比較來自整個晶圓不同位置的結果。通過將3290顯微鏡與3200自動晶片處理模型相結合,中等體積的半導體生產和器件表征操作可以受益於提高的吞吐量、精度和提高的晶片質量。THERMA-WAVE OPTIBE PROBE 3290為用戶提供了半導體制造成功所需的精確度、分辨率和靈活性。
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